中芯新聞

芯原發佈針對中芯國際0.15微米(G/LV)工藝技術的標準單元庫

2003年10月10日


Shanghai  [2003-10-10]

(中國上海訊,2003年10月10日)業界領先的系統級晶片智慧模組供應商芯原微電子,今天正式發佈針對中芯國際積體電路製造有限公司(中芯國際)0.15微米一般性和低壓CMOS工藝的標準設計平臺。該標準平臺包括標準單元庫(standard cell library),輸入/輸出單元庫(I/O cell library)和單/雙口靜態記憶體(single port and dual port SRAM)的記憶體編譯器,單/雙口寄存檔記憶體(register file)以及擴散可編程唯讀記憶體(diffusion programmable ROM)。

該標準設計平臺採用最新的電子模型,為中芯國際0.15微米(G/LV)工藝技術量身定制的。該平臺已經通過中芯國際多專案矽片原型服務(MPW)得以驗證。此外,該設計平臺還支援業界的主流電子設計自動化工具,諸如益華電腦(Cadence), Magma, 明導科技(Mentor)和新思科技(Synoposys)等電子設計自動化工具。

“我們很高興看到我們在美國的主要客戶採用芯原0.18微米標準單元庫,成功生產出第一片幾百萬門級的晶片。”芯原微電子總裁兼總執行長戴偉民博士說,“如同去年我們發佈中芯國際0.18微米標準設計平臺一樣,這也是芯原第一次為中芯國際0.15微米一般性和低壓工藝技術提供矽驗證標準平臺。在上海,我們緊鄰中芯國際的晶片工廠,我們的研發團隊與中芯國際元件設計模型團隊緊密合作,在短時間內提高了標準設計平臺的品質。”

“我們非常高興與芯原微電子共同合作開發了針對我們0.15微米(G/LV)技術的標準設計平臺。”中芯國際(美洲)總裁王端博士說,“作為全球領先的標準單元庫供應商之一,芯原及時地發佈了這一解決方案,並為我們共同的客戶提供了高品質的支援服務。我們期待與芯原繼續密切合作,開發出更多適用中芯國際半導體工藝的標準設計平臺。”

芯原概述:
芯原股份公司於2001年在開曼群島註冊成立,已在美國加州Santa Clara,中國上海,以及臺北均設立了分支機搆。芯原致力於成為領先的ASIC設計代工供應商,提供設計服務和一站式服務,包括設計、晶片生產、封裝、測試和出貨。為了形成ASIC設計代工的架構,芯原向新興的半導體晶片代工廠提供標準設計平臺,包括標準單元庫,輸入/輸出庫,記憶體編譯器。目前,芯原已經向中芯國際(SMIC)、宏力(GSMC),先進(ASMC)和上海華虹NEC提供了半導體標準設計平臺,技術涵蓋0.15微米、0.18微米、0.25微米、0.35微米和0.6微米。如需更多資訊,請流覽公司網站:www.verisilicon.com.

中芯國際概述:
中芯國際作為中國最先進的晶片代工廠,提供工藝技術為0.35微米,0.25微米,0.18微米,0.15微米和0.13微米後段銅制程的積體電路生產服務。中芯國際於2000年4月在開曼群島註冊成立。目前,其位於上海的三座8英寸晶片廠均已進入量產階段,位於北京的12英寸晶片廠正在興建中。2003年5月,半導體業界的權威雜誌《半導體國際》(Semiconductor International Magazine)授予中芯國際一廠“2003年最佳半導體廠”這項極高的榮譽。中芯國際不僅提供積體電路生產服務,還為客戶提供其他的全方位服務,包括設計服務,光掩膜製造,以及矽圓片測試服務。作為專業的代工廠,中芯國際在致力提供優質的服務的同時,亦重視對環境的保護,其位於上海的三個廠都已通過ISO9001品質管制體系認證和ISO14001環境管理體系認證。如需更多資訊,請流覽網站:www.smics.com 。

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