中芯新聞

明導公司向中芯國際提供用於0.18 微米混合信號制程的技術設計工具(TDK)和設計流程

2004年07月08日


上海  [2004-07-08]

(中國, 上海, 2004年7月8日) 明導公司(Mentor Graphics; 納斯達克:MENT)和中芯國際積體電路製造有限公司(紐約證券交易所:SMI,香港聯合證券交易所:981)今天正式宣佈採用一種技術設計工具(TDK)可用於中芯國際0.18 微米混合信號制程技術。 這種源碼開放式設計工具,為Mentor Graphics® 類比/混合信號(AMS)設計流程使用所建造, 使IC 設計公司能夠使用中芯 0.18 微米 加工技術迅速建立全面性的設計環境 - 包括原理圖輸入,仿真,版圖設計,驗證和寄生參數提取。

"建立一種混合信號設計環境通常需要大量的時間和勞力",明導公司副總裁兼DSM部總經理陳志賢說, "明導致力於向用戶提供技術設計工具(TDKs),幫助他們簡化並且加速這個過程, 因此我們很高興與中芯合作,支持他們的主流0.18 微米加工技術"。

"我們的0.18 微米制程, 採用明導的混合信號IC 設計流程,可以滿足我們客戶最嚴格的設計規範和生產要求",中芯國際設計服務部院士歐陽雄說,"採用這套設計工具,我們的客戶可以更快的使他們的設計降低風險及提高生產力"。

受益於這設計工具的中芯國際客戶包括美國圖元科技公司(Pixelworks),全球領先的系統級晶片提供商。這套技術設計工具(TDK)幫助我們更好的節約時間, 使我們迅速實現產品面市的目標",美國圖元科技公司(Pixelworks)的副總裁及院士麥克?韋斯特說,技術設計工具(TDK)可以幫助我們更快的啟動一種新設計。 另外,技術設計工具(TDK)的符合代工規格的參數設備, 跟邏輯驅動版圖實現(IC Station’s LDL) 功能, 使早期的制程技術過渡到中芯最新的0.18 微米 制程變得更加容易和順利。

新設計工具包括中芯國際支援的 Eldo™ 類比仿真模型和 Calibre® DRC, LVS 以及寄生參數提取的技術檔,還包括Design Architect®-IC tool使用的原理圖符號, 與在IC Station中原理圖驅動版圖使用的可編程器件生成工具,工藝流程定義檔,及其它有效使用工具所需的配置檔。

產品可用性:
技術設計工具(TDK) 已經通過驗證並可用於Mentor Graphics® 類比/混合信號(AMS)設計流程。對此有興趣的客戶可以訪問明導的網站:www.mentor.com 或聯繫中芯國際:Design_Services@smics.com。

明導公司提供了一流的設計技術,,包括通過物理實現的原理圖抓取,仿真,驗證及分析 。工具套件包括Design Architect-IC 原理圖輸入產品,提供了一個強勁的類比/混合系統級晶片的設計功能;還有IC Station 定制版圖產品,同時集成了為自動佈線和晶片裝配所用的ICassemble 解決方案。該工具還為數位,類比,混合信號和RF電路提供獨立內核,與語言無關的仿真環境。 The Calibre and Calibre xRC™還能滿足大容量,高性能和精確的驗證和參數提取。 這個成套工具可用于Linux,惠普和Sun 平臺。

中芯國際概述:
中芯國際為全球領先的半導體製造商之一,提供制程技術從0.35微米到0.13微米的積體電路生產服務。中芯國際於2000年4月在開曼群島註冊成立。目前,公司在上海的張江高科技園區經營三座8?季г倉圃斐В?並在中國天津經營一座8?季г倉圃斐А4送猓?公司現正在中國北京興建12?季г倉圃斐А?2003年5月,半導體業界的權威雜誌《半導體國際》(Semiconductor International) 評選出兩家“2003年最佳半導體廠”,中芯國際一廠就是獲得這項榮譽的半導體廠之一。中芯國際不僅提供積體電路製造服務,還為客戶提供其他的全方位服務,包括設計服務,光掩膜製造,和晶圓測試服務等。如需更多資訊,請流覽網站: www.smics.com。

明導公司(Mentor Graphics)概述:
明導公司擁有世界一流的電子軟/硬體設計解決方案,為全球最成功的電子與半導體公司提供電子自動設計化的產品與諮詢服務;同時,也是今年第五度蟬連美國的最佳軟體技術協助成就獎(STAR Award)的公司。Mentor成立於1981年,去年營收將近6億美元,全球約雇用 3,700 員工。公司總部位於美國奧勒岡州(Oregon),2002年在上海註冊了全資子公司“明導(上海)電子科技有限公司”。 全球資訊網網址: www.mentor.com。

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