晶圆代工解决方案概览
工艺技术
• 先进逻辑技术
• 28nm MPW&产品
• 28nm IP&服务
• 40nm
• 65nm/55nm
• 成熟逻辑技术
• SPOCULL
• 90nm, 0.13/0.11µm, 0.18µm,   0.25µm, 0.35µm
• eNVM
• 混合信号/射频工艺技术
• 模拟/电源
• 面板驱动芯片(DDIC)
• CMOS图像传感器 (CIS)
• CMOS 微电子机械系统
• 非易失性存储器
• IoT Solutions
外包服务
芯片代工厂介绍
光罩服务
中芯在线服务
多项目晶圆服务
实验室服务
24小时 技术支持

中芯国际高压工艺为计算机和消费类电子产品以及无线通讯LCD驱动等广泛应用领域提供一个经济有效的平台。

中芯国际同时提供95纳米 SPOCULL 高压平台,该平台的技术性能优越,具备超低功耗的特性来支持可穿戴式设备的应用,具备eNVM来支持in-cell面板的技术,可广泛应用于面板驱动,in-cell面板及AMOLED面板等。

特点
95nm SPOCULL HV
  • 大幅节省芯片面积
  • 更好的晶体管性能
  • 8寸工艺上最小的SRAM
  • 嵌入式NVM[集成NVM(MTP),提供系统级解决方案]



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